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贯通电极奥地利EV Group(EVG)宣布,意法半导体为给CMOS图像传感器形成贯通电极,采用了EVG支持300mm晶圆的接合装置、位置校准装置以及喷雾式光刻胶涂布装置...详情
光布线膜东丽利用以纳米水平精密层叠聚合物来制备薄膜的技术,开发出了可一举形成光传输系统用的光布线膜的基本技术...详情
非接触,机器手德国Zimmermann & Schilp Handhabungstechnik GmbH开发出了半导体生产工序中能以非接触方式搬运最大300mm晶圆的机器人用工具(手)“Non-contact Wafer Gripper”...详情
LED封装三洋半导体将面向LED封装用途,开始外销以铝为基材的单层底板“IMST铝基材底板”...详情
精密螺钉日东精工面向数码相机及手机等精密产品的组装现场,开始正式销售射钉枪(前端工具)易于插入的精密螺钉“Autocross”。新型精密螺钉具有与以往的十字驱动部分不同的特殊驱动部...详情
密封泡沫日东电工开发了用于电子产品内部的防尘及缓冲的泡沫薄膜“SCF”(Super Clean Foam)系列薄型产品“SCF400”。厚度有0.3mm及0.4mm型,分别比原来薄了0.1和0.2mm...详情
印刷焊锡检查机安立(Anritsu)将上市在电子部件表面安装工序中,测量底板上印刷的焊锡膏高度、体积及面积等的印刷焊锡检查机“MK5420A SOLLEAD”。该产品相当于该公司原机型“MK5401C”的后续机型...详情
外观检查装置日本电产理德开始销售支持线宽3μm的超高精细印刷电路板的高速高分辨率光掩膜外观检查装置“MaskView”系列产品。所配备摄像头的分辨率为0.37~7.4μm...详情
阻燃性尼龙三菱工程塑料开发出了无溴聚酰胺(PA)树脂“Novamid 1010N5-GW”...详情
光刻机芯硕半导体(中国)公司在合肥市举行新闻发布会,正式宣布中国首台亚微米级无掩膜(直写式)光刻机研制成功,并于2007年12月正式下线,单线分辨率达0.4微米...详情
覆铜箔板杜邦(DuPont)开发出了聚酰亚胺层仅厚8μm的单面双层柔性底板。将作为“Pyralux AC”系列从2008年1月开始销售。该产品主要用作滑盖手机铰链、激光头及相机模块周边使用的柔性底板...详情
探针系统PA300PS是能够测定阿(Atto)级电流值、飞(Femto)级容量值、微(Micro)级电压值的半自动探针。该产品的特点在于包括放置探头的台板在内,测定器的前置放大器、开关等 ...详情
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